ASML到底有多强？它曾表示：我就算公开图纸，别人也造不出光刻机

 来源丨互联网乱侃秀

作者丨乱侃者

众所周知，当然过去的这几年，ASML和其光刻机一直就是网友们关注的焦点，只不过这两天又更热了起来，因为中芯国际从ASML采购的唯一的一台极紫外光刻机，可能面临变数。

而这台极紫外光刻机，也是中国唯一的一台极紫外光刻机，用于5/7/8nm芯片的制造，而这台极紫外光刻机真的对中国芯际很重要，甚至对中国芯都很重要。

因为目前中国制造不出高端光刻机，ASML是最全球最强的，而中芯国际在量产14nm之后，下一个要研发的就是10nm、7nm工艺，缺少不行。

所以它承载的是中国在高端芯片制造方面的希望，所以一听说ASML没能及时交货，被卡在出口许可证上了，自然关注度就来了。

当然，也有人表示，既然这样，那中国就赶紧花高价去研发，赶紧追上来就好了，事实上目前从技术演进的路径来看，中国光刻机水平至少差ASML10年以上。

中国最强的SMEE差ASML至少10年以上

更重要的是，还不仅仅是技术差距，在人才、经验的积累上，可能更重要。ASML曾经就说过，就算我公开图纸，大家也造不出和我一样强的光刻机出来。

我们知道光刻机的原理其实就是放大的单反，光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形，其中最核心的就是镜头。

其次就是分辨率，光刻机的分辨率是光刻机最重要的技术指标之一，决定了光刻机能够被应用于的工艺节点水平。

最后是套刻精度，也就是指前后两道光刻工序之间彼此图形的对准精度，如果对准的偏差过大，就会直接影响产品的良率。

而光源相对好说，但分辨率、套刻精度就是制约其它厂商前进的脚步，因为分辨率和套刻精度就决定了制造芯片的工艺节点，可以分为0.35um、0.25um、0.18um、90nm、65nm、40nm、28nm、20nm、16/14nm、10nm、7nm等。

而像分辨率、套刻精度这些不仅仅是技术好就能够实现的，而是那些工程师几十年如一日的试验，调校出来的。

也正因为这样所以ASML才能吹牛，说自己就算公开图纸，别人也造不出和它一样的光刻机来，因为零件一样，你也未必能够实现它的精度。